首页 科技快讯 半导体寒冬的唯一变量,什么是高数值孔径光刻技术?

半导体寒冬的唯一变量,什么是高数值孔径光刻技术?

来源:晰数塔互联网快讯 时间:2023年03月29日 11:04

有分析师认为,今年半导体行业将整体下跌20%以上,连过去十年一路高歌猛进的半导体一哥台积电,今年第一季度的5nm产能利用率也仅有75%上下,7nm的产能利用率还不到50%。高库存、消费类市场需求低迷、砍单加剧,经历了2021年和2022年的繁荣,我们不得不承认,从2023年开始,全球半导体行业进入萧条周期。在寒意来袭的时刻,我想只有2024年即将交付的ASML新一代High-NA EUV会是那个变量。本期视频,从技术原理和EUV光刻机技术细节,聊聊我对ASML新一代High-NA EUV的看法。

相关推荐

半导体寒冬的唯一变量,什么是高数值孔径光刻技术?
独家专访ASML CTO:不相信摩尔定律会终结,公司下一个大战略将是超数值孔径光刻机
外媒:High NA EUV 光刻技术在 intel 进入高量产阶段
中科院研发者回应5纳米光刻技术突破ASML垄断
ASML的EUV光刻之路还能走多远?
光刻技术“神坛”崩了,巨头纷纷退货,“平替”杀来了!
芯片破壁者:光刻技术的“鬼斧”之变
荷兰光刻巨头,诞生于一个4.5万人的小镇
ASML最先进的光刻机,花落谁家?
对话半导体光刻专家庞琳勇博士:全芯片ILT是半导体向下迭代的关键技术

网址: 半导体寒冬的唯一变量,什么是高数值孔径光刻技术? https://www.xishuta.cn/newsview69565.html

所属分类:互联网创业

推荐科技快讯