首页科技快讯重大突破！我国新一代光刻机模型亮相

重大突破！我国新一代光刻机模型亮相

来源：晰数塔互联网快讯时间：2026年11月09日 09:35

11月5日至10日，第九届中国国际进口博览会在上海举行。会上，一系列重磅科技亮相。

上海微电子装备集团（简称“SMEE”）携自主研发的新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800（模型）亮相中国馆，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。

图源：上海证券报

SMEE通过微信公众号发文介绍，本次展出的模型采用透明剖视设计，直观呈现整机光学光路与内部机电系统的链路布局。该平台为国产标准化前道光刻装备架构，适配I-line、KrF两类主流技术路线，整机核心的高精度物镜与照明系统、高速双工件台与掩模台、一体化自动物料传输系统、高精度对准调平传感系统均实现全链条自主可控，具备稳定的工艺适配能力与产线运行可靠性。

据悉，目前国产前道干式光刻机成像性能已与国际同类领先产品水平相当，套刻精度、生产效率紧密追赶国际标杆。在售的SSC800系列KrF与SSB800系列I-line机型，基于自研双工件台平台，均搭载国产自主大NA物镜，关键曝光成像指标对标国际标杆。SSC800整体性能跻身行业第一梯队。

基于全栈自主可控技术底座，关键零部件国产化率突破90%，已实现定型与规模化量产，填补国内空白。多台设备已在国内头部逻辑、存储量产线长期稳定运行，累计支持产线流片超千万片，设备有效运行率超92%。

据介绍，SMEE成立于2002年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，也是我国前道光刻装备自主供给体系的核心支撑主体，业务覆盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售与全流程技术服务。

（综合自上海证券报、上海微电子装备集团微信公众号等）

本文系观察者网独家稿件，未经授权，不得转载。

发布于：上海