16层HBM5良率只有40%!三星用一块假芯片保住万亿市场
(来源:快科技)
快科技7月2日消息,三星电子近日提交了一项新型半导体封装专利,专利号为KR20260040407A。该专利针对高堆叠HBM4E与HBM5制程中的可靠性瓶颈实施结构革新。
行业正从8层向16层乃至更高堆叠迈进,顶层虚拟芯片引发的可靠性问题正成为各家厂商必须跨越的门槛。

HBM封装在基底芯片上垂直堆叠存储裸片,顶部覆盖一层虚拟芯片用于保持封装高度并提供机械保护与散热。
当堆叠从8层增至12层时,良率已下滑10至20个百分点。达到16层以上时,翘曲、分层与裂纹问题导致良率大幅跌至40%至60%。
三星的新方案将顶层虚拟芯片设计为底部收窄、顶部加宽的倒金字塔形态。侧壁采用三级阶梯与曲面复合结构。该设计使底面粘接界面更窄、顶面更宽,相比传统垂直侧壁大幅提升了机械强度。
制造工艺上,引入深槽切割激光技术。相比传统机械刀片切割,该工艺能实现更深更精密的切割,同时减少对半导体晶体结构的损伤。在非键合区预设沟槽,防止切割碎屑污染键合界面。
热管理方面,将键合绝缘层底面与水平延伸面之间的垂直距离精确控制在1至10微米之间。
此外还通过优化凸起表面结构缩减塑封料体积,改善散热路径。三星计划将此项技术与混合键合及HPB热阻断技术整合。
HBM5规划提供12层、16层及20层堆叠配置。三星已在电脑展上展示HBM5原型产品,目标2028年左右实现量产。
TrendForce预测2026年全球存储芯片市场规模将飙升至约5516亿美元。对三星而言,这块虚拟芯片的技术突破关系到万亿级别市场的成败。

相关推荐
16层HBM5良率只有40%!三星用一块假芯片保住万亿市场
三星2nm制程良率已达40%
传三星HBM4的逻辑Base Die测试良率已超40%
SK超越三星,存储市场首次
三星正努力将其第二代3nm制程良率提升至20%
台积电、三星的3nm实际良率都只有50%左右!
离谱!8400亿花完了,3nm芯片良率仍为0!
自家3nm良率太低,传三星Exynos旗舰芯片将交由台积电代工?
三星2nm制程初始良率达30%,高于预期!
报告称三星 3nm 芯片良率已超过台积电
网址: 16层HBM5良率只有40%!三星用一块假芯片保住万亿市场 https://www.xishuta.cn/newsview151158.html
推荐科技快讯
- 1问界商标转让释放信号:赛力斯 95792
- 2报告:抖音海外版下载量突破1 25736
- 3人类唯一的出路:变成人工智能 25175
- 4人类唯一的出路: 变成人工智 24611
- 5移动办公如何高效?谷歌研究了 24309
- 6华为 nova14深度评测: 13155
- 7滴滴出行被投诉价格操纵,网约 11888
- 82023年起,银行存取款迎来 10774
- 9五一来了,大数据杀熟又想来, 9794
- 10手机中存在一个监听开关,你关 9519
